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UV解胶机与UV膜
分类：
新闻资讯
作者：
聚德伟业
来源：
新闻资讯
发布时间：
【摘要】：
使用UV膜可以通过紫外光的照射减小膜的吸附力,从而轻易脱落。
这种紫外线光源发生器就是UV解胶机
关于UV膜的原理及使用
在切割半导体等芯片时，将芯片放在UV膜上可以保持晶粒在切割中的完整.减少切割中所产生的崩碎. 确保晶粒在正常传送过程中,不会有位移、掉落的情形.
不会有残胶的现象. 具有适当的扩张性. 晶粒容易取下. 水不会渗入晶粒与胶带之间.
UV膜用途:1.用在WAFER的切割。2.用于保护芯片的完好。 3.用于WAFER的翻转和运输。
但是，进行粘接芯片时，在普通膜上的LED芯片一般都是吸附力较大，不容易吸取，但是使用UV膜可以通过紫外光的照射减小膜的吸附力，从而轻易脱落。这种紫外线光源发生器就是UV解胶机。
UV膜的原理：
在特殊配方的树脂中加入光引发剂（或光敏剂），经过吸收紫外线（UV）光解胶机设备中的高强度紫外光后，产生活性自由基或离子基，从而引发聚合、交联和接枝反应，使树脂(UV涂料、油墨、粘合剂等)在数秒内（不等）由液态转化为固态。去除粘性。
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